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Acerde développe de nouvelles applications

Florence Martinache
Acerde développe de nouvelles applications

Dominique Perrodin (gauche), le directeur administratif et financier, et Didier Pique (droite), p-dg d'Acerde devant l'un des réacteurs de la société.

© © Acerde

Spécialisée dans le dépôt chimique en phase vapeur à haute température, la jeune société Acerde devrait tirer son épingle du jeu au cours des prochaines années. Plus par l'usage qu'elle fait de sa technologie que par le procédé lui-même.

Fondée en avril 2006, l'entreprise Acerde base son activité sur son expertise en dépôt chimique en phase vapeur à haute température (HTCVD). « On part de gaz à très haute température à partir desquels on va obtenir des matériaux un peu exotiques aux propriétés extraordinaires », précise Didier Pique, fondateur et Pdg d'Acerde. Après quinze ans au service de l'Américain Applied Materials, son envie d'indépendance pousse Didier Pique à lancer sa propre société. L'idée de départ : créer une entreprise autour de la technologie de HTCVD. Il fait un bref passage dans un incubateur, puis participe aux concours du ministère de la Recherche pour les sociétés innovantes. Il décroche alors deux prix, l'un de 45 000 euros en 2006 dans la catégorie « Émergence » et l'autre de 375 000 euros en 2007 dans la catégorie « Création et développement ».

Parallèlement à cela, il rassemble sept personnes physiques et une personne morale en 2006 et glane 200 000 euros supplémentaires. Puis, une première levée de fonds en 2008 à hauteur de 500 000 euros permet à l'entreprise d'être valorisée et d'investir dans une machine de production. Son outil de production est constitué de réacteurs (ou fours) conçus et montés par l'équipe d'Acerde et permettant le dépôt de nitrures, carbures et alliages à base de tungstène, tantale, titane, rhénium, silicium et bore. La société compte aujourd'hui seize personnes dont cinq docteurs, trois ingénieurs et trois techniciens. Et depuis 2009, elle a rejoint Innovallée située non loin de Grenoble, un emplacement de choix pour une société innovante. « La technologie de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie classique connue de tout le monde, mais nous avons une petite originalité, qui n'est pas de l'innovation, c'est que nous mélangeons la CVD avec la haute température. Cela nous donne un caractère unique dans ce domaine », précise le Pdg. La véritable innovation se trouve en effet ailleurs...

L'activité de la société s'articule autour de trois branches : matériaux sur demande, anodes pour tubes à rayons X et croissance de monocristal de nitrure d'aluminium (AlN). La première, matériaux sur demande, s'adresse à tous types de secteurs (médical, nucléaire, aéronautique, semi-conducteurs...) et relève davantage de la prestation de services que du produit. Les anodes pour tubes à rayons X sont quant à elles uniquement dédiées au médical pour la réalisation de scanners.

 

Purifier l'air et l'eau

 

Enfin, pour les monocristaux d'AlN, l'objectif est de faire des diodes UV qui seront utilisées, entre autres, pour la purification des eaux. Cette dernière est la principale activité de recherche d'Acerde. Elle collabore sur cette thématique avec un laboratoire de Grenoble, le SIMaP (Science et ingénierie des matériaux et procédés). Le laboratoire a mis au point la technologie et Acerde s'attache à la transférer au niveau industriel. En 2009, la société a ainsi fait l'acquisition d'un réacteur pré-industriel dédié à la croissance de monocristaux d'AlN. « La technologie n'est pas innovante. C'est la croissance du monocristal d'AlN qui est innovante, insiste Didier Pique, aujourd'hui, personne ne sait faire de l'AlN monocristallin ». Le principe est pourtant simple : le dépôt chimique en phase vapeur consiste à injecter un mélange de gaz dans un réacteur afin de le faire réagir chimiquement avec un substrat chaud. Pour la croissance de l'AlN monocristallin, « on chlore de l'aluminium, ce qui donne de l'AlCl3 gazeux, celui-ci va réagir avec de l'ammoniac injecté dans le réacteur, pour faire AlN+3HCl, HCl reste gazeux et l'AlN solide va se déposer sur le substrat chaud. Nous faisons cela à des températures variant de 1 500 à 1 900 degrés », détaille Didier Pique. Le développement de ce produit est déjà bien avancé et les efforts se concentrent aujourd'hui sur la recherche d'applications. Acerde a donc pris part au programme DUVED, subventionné par l'ANR, en partenariat avec le LETI et le CEA notamment. Ce projet, démarré en janvier 2009, vise la mise au point de diodes ultra-violet avec un rendement de 10 % pour la purification de l'eau, de l'air et la stérilisation. L'AlN est en effet caractérisé par un gap de 6,2 eV qui lui permet d'émettre avec des longueurs d'onde de l'ordre de 200 nm. En septembre, une seconde levée de fonds a apporté à la société un capital supplémentaire de 1,5 million d'euros. Cela va permettre de « développer et renforcer les fonds propres de l'entreprise pour pouvoir s'imposer sur les marchés ». Pour continuer son ascension, la petite entreprise quittera Innovallée en mars pour s'installer en Savoie. « Nous allons probablement créer une soixantaine d'emplois d'ici cinq ans pour monter une unité de production », planifie Didier Pique.

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