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Projets et réalisations/Fuso augmente sa capacité de silice colloïdale

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Fuso Chemical vient d'investir 3 Mrds ¥ (28 M€) sur son site de Kyoto afin d'augmenter sa production de silice colloïdale. Dès la fin d'octobre, le site devrait produire quatre fois plus qu'aujourd'hui et atteindre les 25 000 t/an. Cette silice ultrapure est utilisée comme abrasif dans la fabrication de semi-conducteurs. Elle intervient aussi dans la technologie dite "CMP" (Chemical Mechanical Planarization). La silice colloïdale de Fuso contient au maximum 100 ppm d'impuretés, principalement du sodium.

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